nano Arch P120
微納3D打印系統
nanoArch? / microArch??是可以實現高精度大幅面微尺度3D打印的設備系統，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢，被認為是目前最有前景的微納加工技術之一。
我們的產品
2μm
10μm
25μm
亞微米級3D金屬打印
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超高精密3D打印設備產品手冊-工業2021.11.02 -
超高精度微尺度3D打印設備產品手冊-科研2021.11.02 -
超高精度微尺度3D打印設備產品單頁2022.01.20 -
CERES微納金屬增材設備2022.02.11
設備匹配材料
摩方擁有專業的3D打印材料研發團隊，能夠提供多種高性能3D打印材料：405nm固化波段的通用型光敏樹脂，可支持硬性樹脂、韌性樹脂、耐高溫樹脂、生物兼容樹脂、耐候性樹脂、陶瓷漿料等，可根據打印樣品的要求選配不同材料。
產品特性
光學系統：405nm光源，定制化設計加工的投影鏡頭，分辨率達2μm
運動系統：亞微米級多軸運動平臺，高精密運動控制系統
拼接打印：微米級拼接融合技術，解決打印精度與大尺寸成型之間的矛盾
軟件系統：友好的圖形界面控制系統，工藝窗口開源
輔助系統：實時監控相機、沉浸式繃膜、氣泡刮刀等
使用環境要求
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電力需求
100-240V/單相/50/60Hz/15A；
供電電網波動： ＜5%；
電網地線符合機房國標要求。 -
環境溫度
22±3℃
-
環境濕度
40%-60%
-
需避免的場合
垃圾、灰塵、油霧多的場所；
震動以及沖擊多的場所；
能觸及藥品和易燃易爆物的場所；
高頻干擾源附近的場所；
溫度會急劇變化的場所；
ဆ
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