nanoArch首次亮相北美市場
發布日期：2017-04-06
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UV.EB WEST2017于美國時間2月28日~3月1日在美國舊金山舉行，摩方材料參加了此次展會，向北美市場推出全球第一臺大幅面微納尺度3D打印系統nanoArchTM。此次展會上，nanoArchTM受到APPLE、Magic Leap、美國科羅拉多大學（University of Colorado）等全球創新科技企業及高校機構的極大關注，展會現場，關注企業及高校與摩方材料進行了詳細的技術溝通，并約定會后盡快推動開展合作。
nanoArchTM是摩方材料自主研發的微納尺度3D打印系統，具備微納尺度打印精度、大幅面（80x80mm）、多材料打印、復合材料成型等特點，支持樹脂、金屬、陶瓷等多種打印材料。該系統采用PμLSE（面投影微立體光刻）技術，PμLSE（面投影微立體光刻）技術因具有成型效率高、生產成本低等突出優勢被認為是目前最具有前景的微納加工技術之一。
2016年底nanoArchTM已投入產業化，摩方材料將在今年向阿連酋Masdar學院和南京大學固體微結構物理國家重點實驗室提供該系列的實體系統。
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