nanoArchR P150 系統簡介
nanoArch P150采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢，被認為是目前最有前景的微納加工技術之一。
工業級3D打印系統
nanoArch P150是工業級3D打印系統，擁有25μm的打印精度和10μm的超低打印層厚，具備優良的光源穩定性，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
工業級3D打印系統
nanoArch P150是工業級3D打印系統，擁有25μm的打印精度和10μm的超低打印層厚，具備優良的光源穩定性，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
nanoArchR P150 系統性能
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光源
UV-LED(405nm) |
打印材料
光敏樹脂 |
光學精度
25μm |
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XY打印精度
50~200μm |
打印層厚
10~50μm |
打印樣品尺寸
48mm(L)*27mm(W)*50mm(H) |
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樣品高度
20mm in typical； |
打印速度
5180~25920mm3/h |
打印文件格式
STL |
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設備功率
2000W |
系統外形尺寸
530(L)*540(W)*700mm(H) |
重量
300kg |
微納制造 精密必現
nanoArch P150采用的是面投影微立體光刻技術（PμSL：Projection Micro Stereolithography）
微納制造 精密必現
nanoArch P150采用的是面投影微立體光刻技術（PμSL：Projection Micro Stereolithography）
打印材料
高強度材料（GR/HTL）
非常適合高強度產品快速原型
（prototype）打印和制造，強度接近工程材料PC。
韌性材料（HEK/HD/UTL）
性能類似ABS材料，適合有卡扣等有裝配關系的原型結構件加工和測試。
耐高溫材料(HTL)
熱變形溫度142℃（@0.45MPa），適用于高溫環境下使用，例如醫療器械高溫消毒等應用。
生物相容性材料(BIO)
通過了生物相容性認證，適用于食品、牙科和醫療器械等行業。
打印材料
高強度材料（GR/HTL）
非常適合高強度產品快速原型
（prototype）打印和制造，強度接近工程材料PC。
韌性材料（HEK/HD/UTL）
性能類似ABS材料，適合有卡扣等有裝配關系的原型結構件加工和測試。
耐高溫材料(HTL)
熱變形溫度142℃（@0.45MPa），適用于高溫環境下使用，例如醫療器械高溫消毒等應用。
生物相容性材料(BIO)
通過了生物相容性認證，適用于食品、牙科和醫療器械等行業。
系統特點
獨特的供料系統和涂層技術
具有高精度微尺度多材料的打印能力
光學監控系統，自動對焦功能
配置光學平臺，提高打印質量
優良的光源穩定性
配備完善的樣品后處理組件
包括抽真空及紫外后固化
應用案例
展示樣件
微流控器件
