摩方首臺微納米3D打印系統P120出貨阿聯酋馬斯達爾理工學院

發布日期：2017-06-21

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2017年5月12日，阿聯酋馬斯達爾理工學院(Masdar Institute of Science and Technology) 首次接收由摩方BMF出品的微納米尺度3D打印系統設備nanoArch™ P120。

nanoArch™采用PμLSE（面投影微立體光刻）技術，是用于實現高精度多材料微納尺度3D打印的設備。其通過將紫外光投影到液態樹脂表面使其固化，逐層累加從而完成產品的制作，即通過一次曝光可以完成一層的制作。

nanoArch System 是基于PULSE技術(面投影微立體光刻技術)的微納米級3D打印系統，PμLSE技術(面投影微立體光刻技術)被認為是目前最有前景的微納加工技術之一。

nanoArch用于實現高精度多材料微納尺度3D打印，微結構分辨率可達0.5μm，具備成型效率高、生產成本低、打印精度高等突出優勢。根據客戶的不同需求，BMF Material提供可定制的一體化解決方案。

在微納加工領域，BMF Material擁有多年的實踐經驗，針對客戶在設備使用中可能出現的工藝難題，提供簡易高效的技術支撐方案；并可幫助客戶挖掘廣泛的科學家研究網絡，促進材料研究。因此，nanoArch™ P120作為BMF摩方高端產品系列之一，其可根據客戶需求，定制開發，擁有開放的樹脂材料平臺：可使用多種類樹脂材料，可功能升級、模塊改造，電氣接口完備，并且還能自主開發軟件方案，最難得是的該系統可實現多種打印及負面，精度最高可達0.5μm。

nanoArch™ P120 打印參數：

耗材要求：兼容各種中、低粘度405nm波長光固化樹脂體系使用材料：

應用行業：

(1) 科研類

? X.Zheng, W.Smith, J.Jackson, B.Moran, H.Cui, D.Chen, J.Ye, N.Fang, N.Rodriguez, T.Weisgraber & C.M.Spadaccini, "Multiscale Metallic Metamaterials", Nature Materials,15(10):1100 (2016)

? X. Zheng, H. Lee, T. H. Weisgraber, M. Shusteff, J. DeOtte, E. B. Duoss, J. D. Kuntz, M.M. Biener, Q. Ge, J. A. Jackson, S. O. Kucheyev, N. X. Fang, C. M. Spadaccini, “Ultralight, ultrastiff mechanical metamaterials”, Science, Vol 344(6190), 1373-7(2014).

? Z.Liu, H.Lee, Y.Xiong, C.Sun,and X,Zhang, "Far-Field Optical Hyperlens Magnifying
Sub-Diffraction-Limited Objects" Science 315(5819):1686 (2007)

? N.Fang, H.Lee, C.Sun, and X.Zhang, "Sub-Diffraction-Limited Optical Imaging with a Silver Superlens", Science, 308(5721), pp534-537, (2005)

(2)輕量化材料