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                1. 南京大學國家重點實驗室完成nanoArchP110 驗收

                  發布日期:2017-07-14

                  瀏覽量:5590次

                   

                  2017年6月30日,摩方材料出品的微納米尺度3D打印系統設備nanoArch™ P110由南京大學正式通過驗收。這是摩方材料成長過程中,繼nanoArch™ P120之后的又一里程碑,其代表著摩方材料在通往高精密微納打印的道路上,逐漸邁向成熟,如同摩方材料公司核心價值觀一樣,穩中求進,逐漸強大。

                   

                   

                   

                  nanoArch™采用PμLSE(面投影微立體光刻)技術,是用于實現高精度多材料微納尺度3D打印的設備。其通過將紫外光投影到液態樹脂表面使其固化,逐層累加從而完成產品的制作,即通過一次曝光可以完成一層的制作。

                   

                  nanoArch System 是基于PULSE技術(面投影微立體光刻技術)的微納米級3D打印系統,PμLSE技術(面投影微立體光刻技術)被認為是目前最有前景的微納加工技術之一。

                   

                         微納3D打印機nanoArch P110是采用PμLSE(面投影微立體光刻)技術,用于實現高精度多材料微納尺度3D打印的設備。通過將紫外光投影到液態樹脂表面使其固化,逐層累加從而完成產品的制作。通過一次曝光可以完成一層的制作,具備成型效率高、生產成本低、打印精度高等突出優勢,并能實現多材料的微納尺度材料三維打印。微結構分辨率可達2μm。

                         在微納加工領域,BMF Material擁有多年的實踐經驗,針對客戶在設備使用中可能出現的工藝難題,提供簡易高效的技術支撐方案;并可幫助客戶挖掘廣泛的科學家研究網絡,促進材料研究。

                   

                  微納3D打印機nanoArch P110有以下四個顯著的產品特點:

                  (1).可定制高定位精度的光學系統和運動平臺,兩者最高分辨率皆可達到2μm。

                  (2).配置高精度CCD圖像監控系統,實現光學對焦及實時曝光補償,方便用戶監控打印過程中異常。

                  (3).采用圖像拼接成型方式解決成型精度與大尺寸成型之間的矛盾。

                  (4).通過工藝技術控制,實現3D打印成品的表面光滑。

                   

                  nanoArch™ P110 打印參數:

                  打印尺寸:

                  80x80 mm

                  打印技術:

                  PμLSE

                  機器尺寸:

                  1750x650x1820mm

                  操作軟件:

                  LabView

                  模型厚度:

                  50mm

                  操作系統:

                  WINDOWS

                  XY方向精度:

                  2 um

                  文件格式:

                  PNG/STL

                  Z方向精度:

                  10 um

                  輸入電壓:

                  220V /50HZ

                  打印耗材:

                  光敏樹脂

                  機器功率:

                  3000W

                  環境溫度:

                  25±2℃

                  機器重量:

                  500KG

                   

                  使用材料:

                  耗材要求:兼容各種中、低粘度405nm波長光固化樹脂體系

                   

                  應用行業:

                  1 科研類

                   

                   

                  ?    X.Zheng,   W.Smith, J.Jackson, B.Moran, H.Cui, D.Chen, J.Ye, N.Fang, N.Rodriguez,   T.Weisgraber & C.M.Spadaccini, "Multiscale Metallic   Metamaterials", Nature Materials,15(10):1100 (2016)

                  ?   X. Zheng, H.   Lee, T. H. Weisgraber, M. Shusteff, J. DeOtte, E. B. Duoss, J. D. Kuntz, M.M.   Biener, Q. Ge, J. A. Jackson, S. O. Kucheyev, N. X. Fang, C. M. Spadaccini, “Ultralight, ultrastiff mechanical metamaterials”, Science, Vol 344(6190), 1373-7(2014).

                  ?   Z.Liu,   H.Lee, Y.Xiong, C.Sun,and X,Zhang, "Far-Field Optical Hyperlens   Magnifying
                    Sub-Diffraction-Limited Objects" Science   315(5819):1686 (2007)

                  ?   N.Fang,   H.Lee, C.Sun, and X.Zhang, "Sub-Diffraction-Limited Optical Imaging with   a Silver Superlens", Science,  308(5721), pp534-537, (2005)

                   

                  2輕量化材料

                   

                   

                    應用領域:航空/航天/汽車

                   

                  3光學元器件

                   

                   

                  應用領域:手機/VR/相機

                   

                   

                          希望南京大學師生可以利用nanoArch P110研究出更偉大的案例,給中國科學研究帶來更多捷報,提升中國在國際高精密加工技術領域的雄厚實力!

                   

                   

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